ടാൻ്റലം കാർബൈഡ് (TaC)ഉയർന്ന ദ്രവണാങ്കം, ഉയർന്ന കാഠിന്യം, നല്ല രാസ സ്ഥിരത, ശക്തമായ വൈദ്യുത, താപ ചാലകത മുതലായവയുടെ ഗുണങ്ങളുള്ള ഒരു സൂപ്പർ-ഉയർന്ന താപനിലയെ പ്രതിരോധിക്കുന്ന സെറാമിക് മെറ്റീരിയലാണ്.TaC കോട്ടിംഗ്അബ്ലേഷൻ-റെസിസ്റ്റൻ്റ് കോട്ടിംഗ്, ഓക്സിഡേഷൻ-റെസിസ്റ്റൻ്റ് കോട്ടിംഗ്, വെയർ-റെസിസ്റ്റൻ്റ് കോട്ടിംഗ് എന്നിവയായി ഉപയോഗിക്കാം, കൂടാതെ എയ്‌റോസ്‌പേസ് തെർമൽ പ്രൊട്ടക്ഷൻ, മൂന്നാം തലമുറ അർദ്ധചാലക സിംഗിൾ ക്രിസ്റ്റൽ ഗ്രോത്ത്, എനർജി ഇലക്ട്രോണിക്‌സ്, മറ്റ് ഫീൽഡുകൾ എന്നിവയിൽ ഇത് വ്യാപകമായി ഉപയോഗിക്കുന്നു.
പ്രക്രിയ:
ടാൻ്റലം കാർബൈഡ് (TaC)ഉയർന്ന ദ്രവണാങ്കം, ഉയർന്ന കാഠിന്യം, നല്ല രാസ സ്ഥിരത, ശക്തമായ വൈദ്യുത, താപ ചാലകത എന്നിവയുടെ ഗുണങ്ങളുള്ള ഒരു തരം അൾട്രാ-ഹൈ ടെമ്പറേച്ചർ റെസിസ്റ്റൻ്റ് സെറാമിക് മെറ്റീരിയലാണ്. അതുകൊണ്ട്TaC കോട്ടിംഗ്അബ്ലേഷൻ-റെസിസ്റ്റൻ്റ് കോട്ടിംഗ്, ഓക്സിഡേഷൻ-റെസിസ്റ്റൻ്റ് കോട്ടിംഗ്, വെയർ-റെസിസ്റ്റൻ്റ് കോട്ടിംഗ് എന്നിവയായി ഉപയോഗിക്കാം, കൂടാതെ എയ്‌റോസ്‌പേസ് തെർമൽ പ്രൊട്ടക്ഷൻ, മൂന്നാം തലമുറ അർദ്ധചാലക സിംഗിൾ ക്രിസ്റ്റൽ ഗ്രോത്ത്, എനർജി ഇലക്ട്രോണിക്‌സ്, മറ്റ് ഫീൽഡുകൾ എന്നിവയിൽ ഇത് വ്യാപകമായി ഉപയോഗിക്കുന്നു.
കോട്ടിംഗുകളുടെ ആന്തരിക സ്വഭാവം:
തയ്യാറാക്കാൻ ഞങ്ങൾ സ്ലറി-സിൻ്ററിംഗ് രീതി ഉപയോഗിക്കുന്നുTaC കോട്ടിംഗുകൾവിവിധ വലുപ്പത്തിലുള്ള ഗ്രാഫൈറ്റ് അടിവസ്ത്രങ്ങളിൽ വ്യത്യസ്ത കനം. ആദ്യം, ടാ സ്രോതസ്സും സി ഉറവിടവും അടങ്ങുന്ന ഉയർന്ന ശുദ്ധിയുള്ള പൊടി ഒരു ഏകീകൃതവും സുസ്ഥിരവുമായ മുൻഗാമി സ്ലറി രൂപപ്പെടുത്തുന്നതിന് ഡിസ്പേഴ്സൻ്റും ബൈൻഡറും ഉപയോഗിച്ച് ക്രമീകരിച്ചിരിക്കുന്നു. അതേ സമയം, ഗ്രാഫൈറ്റ് ഭാഗങ്ങളുടെ വലിപ്പവും കനം ആവശ്യകതകളും അനുസരിച്ച്TaC കോട്ടിംഗ്, സ്പ്രേ, പകര്ന്നു, നുഴഞ്ഞുകയറ്റം, മറ്റ് രൂപങ്ങൾ എന്നിവയിലൂടെ പ്രീ-കോട്ടിംഗ് തയ്യാറാക്കപ്പെടുന്നു. അവസാനമായി, ഒരു യൂണിഫോം, ഇടതൂർന്ന, സിംഗിൾ-ഫേസ്, നന്നായി ക്രിസ്റ്റലിൻ തയ്യാറാക്കുന്നതിനായി ഒരു വാക്വം പരിതസ്ഥിതിയിൽ ഇത് 2200℃ ന് മുകളിൽ ചൂടാക്കുന്നു.TaC കോട്ടിംഗ്.
കോട്ടിംഗുകളുടെ ആന്തരിക സ്വഭാവം:
യുടെ കനംTaC കോട്ടിംഗ്ഏകദേശം 10-50 μm ആണ്, ധാന്യങ്ങൾ ഒരു സ്വതന്ത്ര ഓറിയൻ്റേഷനിൽ വളരുന്നു, മറ്റ് മാലിന്യങ്ങൾ ഇല്ലാതെ, ഒറ്റ-ഘട്ട മുഖം-കേന്ദ്രീകൃത ക്യൂബിക് ഘടനയുള്ള TaC കൊണ്ടാണ് ഇത് നിർമ്മിച്ചിരിക്കുന്നത്; കോട്ടിംഗ് ഇടതൂർന്നതാണ്, ഘടന പൂർത്തിയായി, സ്ഫടികത ഉയർന്നതാണ്.TaC കോട്ടിംഗ്ഗ്രാഫൈറ്റിൻ്റെ ഉപരിതലത്തിലെ സുഷിരങ്ങൾ നിറയ്ക്കാൻ കഴിയും, അത് ഉയർന്ന ബോണ്ടിംഗ് ശക്തിയോടെ ഗ്രാഫൈറ്റ് മാട്രിക്സുമായി രാസപരമായി ബന്ധിപ്പിച്ചിരിക്കുന്നു. കോട്ടിംഗിലെ Ta യും C യും തമ്മിലുള്ള അനുപാതം 1: 1 ന് അടുത്താണ്. GDMS പ്യൂരിറ്റി ഡിറ്റക്ഷൻ റഫറൻസ് സ്റ്റാൻഡേർഡ് ASTM F1593, അശുദ്ധി സാന്ദ്രത 121ppm-ൽ കുറവാണ്. കോട്ടിംഗ് പ്രൊഫൈലിൻ്റെ ഗണിത ശരാശരി വ്യതിയാനം (Ra) 662nm ആണ്.
പൊതുവായ പ്രയോഗങ്ങൾ:
GaN ഒപ്പംSiC എപ്പിറ്റാക്സിയൽവേഫർ കാരിയറുകൾ, സാറ്റലൈറ്റ് വിഭവങ്ങൾ, ഷവർഹെഡുകൾ, ടോപ്പ് കവറുകൾ, സസെപ്റ്ററുകൾ എന്നിവയുൾപ്പെടെയുള്ള CVD റിയാക്റ്റർ ഘടകങ്ങൾ.
ക്രൂസിബിളുകൾ, സീഡ് ക്രിസ്റ്റൽ ഹോൾഡറുകൾ, ഫ്ലോ ഗൈഡുകൾ, ഫിൽട്ടറുകൾ എന്നിവയുൾപ്പെടെ SiC, GaN, AlN ക്രിസ്റ്റൽ വളർച്ചാ ഘടകങ്ങൾ.
റെസിസ്റ്റീവ് ഹീറ്റിംഗ് ഘടകങ്ങൾ, നോസിലുകൾ, ഷീൽഡിംഗ് റിംഗുകൾ, ബ്രേസിംഗ് ഫിക്‌ചറുകൾ എന്നിവയുൾപ്പെടെയുള്ള വ്യാവസായിക ഘടകങ്ങൾ.
പ്രധാന സവിശേഷതകൾ:
2600 ഡിഗ്രിയിൽ ഉയർന്ന താപനില സ്ഥിരത
H ൻ്റെ കഠിനമായ രാസ പരിതസ്ഥിതികളിൽ സ്ഥിരമായ സംരക്ഷണം നൽകുന്നു2, NH3, SiH4ഒപ്പം Si നീരാവി
ചെറിയ ഉൽപാദന ചക്രങ്ങളുള്ള വൻതോതിലുള്ള ഉൽപാദനത്തിന് അനുയോജ്യം.
