അർദ്ധചാലക സിലിക്കൺ അടിസ്ഥാനമാക്കിയുള്ള GaN എപ്പിറ്റാക്സി

ഹ്രസ്വ വിവരണം:

Semicera Energy Technology Co., Ltd. നൂതന അർദ്ധചാലക സെറാമിക്സിൻ്റെ മുൻനിര വിതരണക്കാരനും ഉയർന്ന ശുദ്ധിയുള്ള സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് സെറാമിക് (പ്രത്യേകിച്ച് റീക്രിസ്റ്റലൈസ്ഡ് SiC), CVD SiC കോട്ടിംഗും ഒരേസമയം നൽകാൻ കഴിയുന്ന ചൈനയിലെ ഒരേയൊരു നിർമ്മാതാവാണ്. കൂടാതെ, അലുമിന, അലുമിനിയം നൈട്രൈഡ്, സിർക്കോണിയ, സിലിക്കൺ നൈട്രൈഡ് തുടങ്ങിയ സെറാമിക് ഫീൽഡുകളിലും ഞങ്ങളുടെ കമ്പനി പ്രതിജ്ഞാബദ്ധമാണ്.

 

ഉൽപ്പന്ന വിശദാംശങ്ങൾ

ഉൽപ്പന്ന ടാഗുകൾ

സിലിക്കൺ അടിസ്ഥാനമാക്കിയുള്ള GaN എപ്പിറ്റാക്സി

ഉൽപ്പന്ന വിവരണം

ഞങ്ങളുടെ കമ്പനി ഗ്രാഫൈറ്റ്, സെറാമിക്സ്, മറ്റ് വസ്തുക്കൾ എന്നിവയുടെ ഉപരിതലത്തിൽ സിവിഡി രീതി ഉപയോഗിച്ച് SiC കോട്ടിംഗ് പ്രോസസ്സ് സേവനങ്ങൾ നൽകുന്നു, അതിനാൽ കാർബണും സിലിക്കണും അടങ്ങിയ പ്രത്യേക വാതകങ്ങൾ ഉയർന്ന താപനിലയിൽ പ്രതിപ്രവർത്തിച്ച് ഉയർന്ന പരിശുദ്ധിയുള്ള SiC തന്മാത്രകൾ, പൂശിയ വസ്തുക്കളുടെ ഉപരിതലത്തിൽ നിക്ഷേപിച്ച തന്മാത്രകൾ, SIC സംരക്ഷണ പാളി രൂപീകരിക്കുന്നു.

പ്രധാന സവിശേഷതകൾ:

1. ഉയർന്ന താപനില ഓക്സിഡേഷൻ പ്രതിരോധം:

താപനില 1600 C വരെ ഉയരുമ്പോൾ ഓക്സിഡേഷൻ പ്രതിരോധം ഇപ്പോഴും വളരെ നല്ലതാണ്.

2. ഉയർന്ന പരിശുദ്ധി : ഉയർന്ന താപനിലയിൽ ക്ലോറിനേഷൻ അവസ്ഥയിൽ രാസ നീരാവി നിക്ഷേപം വഴി നിർമ്മിക്കുന്നത്.

3. മണ്ണൊലിപ്പ് പ്രതിരോധം: ഉയർന്ന കാഠിന്യം, ഒതുക്കമുള്ള ഉപരിതലം, സൂക്ഷ്മ കണങ്ങൾ.

4. നാശ പ്രതിരോധം: ആസിഡ്, ആൽക്കലി, ഉപ്പ്, ഓർഗാനിക് റിയാഗൻ്റുകൾ.

CVD-SIC കോട്ടിംഗിൻ്റെ പ്രധാന സവിശേഷതകൾ

SiC-CVD പ്രോപ്പർട്ടികൾ

ക്രിസ്റ്റൽ ഘടന

FCC β ഘട്ടം

സാന്ദ്രത

g/cm ³

3.21

കാഠിന്യം

വിക്കേഴ്സ് കാഠിന്യം

2500

ധാന്യത്തിൻ്റെ വലിപ്പം

μm

2~10

കെമിക്കൽ പ്യൂരിറ്റി

%

99.99995

താപ ശേഷി

J·kg-1 ·K-1

640

സബ്ലിമേഷൻ താപനില

2700

Felexural ശക്തി

MPa (RT 4-പോയിൻ്റ്)

415

യങ്ങിൻ്റെ മോഡുലസ്

Gpa (4pt ബെൻഡ്, 1300℃)

430

തെർമൽ എക്സ്പാൻഷൻ (CTE)

10-6K-1

4.5

താപ ചാലകത

(W/mK)

300

സെമിസെറ ജോലി സ്ഥലം
സെമിസെറ ജോലി സ്ഥലം 2
ഉപകരണ യന്ത്രം
CNN പ്രോസസ്സിംഗ്, കെമിക്കൽ ക്ലീനിംഗ്, CVD കോട്ടിംഗ്
ഞങ്ങളുടെ സേവനം

  • മുമ്പത്തെ:
  • അടുത്തത്: